硅晶電池片反射率儀

R9000硅晶電池片反射率儀
太陽能領(lǐng)域全自動(dòng)兩維掃描反射率儀

通過反射率測(cè)量進(jìn)行絨化控制
通過顏色和厚度測(cè)量進(jìn)行減反射膜控制

產(chǎn)品特點(diǎn)：

• 膜層反射率、膜厚和顏色的離線測(cè)量
  用于研發(fā)，生產(chǎn)過程對(duì)鍍膜工藝的質(zhì)量控制
  設(shè)計(jì)人性化
  精確，重復(fù)性好
  性價(jià)比高
  具有全部知識(shí)產(chǎn)權(quán)，定制設(shè)計(jì)平臺(tái)好
  檢測(cè)速度快，檢測(cè)工序簡單

開機(jī)無需預(yù)熱；測(cè)試同一塊樣品，節(jié)約工人時(shí)間50%以上；

連續(xù)測(cè)試樣品，節(jié)約工人時(shí)間80%以上。

R9000系列設(shè)計(jì)精度更高，樣品更加貼近積分球，測(cè)量的反射率更加準(zhǔn)確。

小提示：按照國際上通行的光譜測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)（CIE），漫反射樣品的反射率測(cè)量需要使用積分球。因此，要獲得電池片絨面反射率的準(zhǔn)確數(shù)據(jù)，需要使用積分球。積分球在使用中要求樣品盡量貼近開口。樣品離積分球開口越近，積分球收集到的光越多，反射率測(cè)量越準(zhǔn)確。

高性價(jià)比和售后服務(wù)

同樣價(jià)格更多實(shí)用配置和功能。
每臺(tái)儀器都選用高質(zhì)量零件，零件全檢，系統(tǒng)出場(chǎng)前必須全部通過測(cè)試。
廠家隨同儀器提供完整的技術(shù)資料和軟件。
免費(fèi)培訓(xùn)用戶技術(shù)人員2人，并進(jìn)行操作演示、技術(shù)咨詢及數(shù)據(jù)處理等培訓(xùn)。
維修響應(yīng)時(shí)間：賣方接到買方的維修通知后24-48小時(shí)迅速響應(yīng)。
免費(fèi)質(zhì)保期內(nèi)賣方負(fù)責(zé)所有因設(shè)備質(zhì)量問題而產(chǎn)生的費(fèi)用。
質(zhì)保期后的服務(wù)后，提供終身維護(hù)服務(wù)，只按廠價(jià)收取所換的成本費(fèi)，不收維護(hù)費(fèi)。
國內(nèi)設(shè)有物流中心，免去了購買進(jìn)口產(chǎn)品不可避免的維修周期長的弊病和高關(guān)稅。
自主研發(fā)，具有更大的自主改進(jìn)和開行性，對(duì)不同的客戶要求可以積極有效的響應(yīng)。

R9000-2DMA自動(dòng)圖譜（Mapping）功能

-單塊片子反射率并不均勻，傳統(tǒng)反射率儀器只能測(cè)試某一點(diǎn)，多點(diǎn)測(cè)試靠人工移動(dòng)，數(shù)據(jù)沒有可比性。

-R9000 提供全自動(dòng)多點(diǎn)掃描功能，讓您更準(zhǔn)確了解自己的產(chǎn)品情況

R9000-2DMA應(yīng)用

電池片（Cell/module) 減反工藝，優(yōu)化及監(jiān)控包括：
酸制絨工藝； 堿制絨工藝； SiNx 減反膜工藝； 復(fù)合減反膜工藝
EVA封裝工藝； TiO2減反膜工藝； SiO2鈍化工藝； 光伏（絨面）玻璃封裝工藝

裸片和鍍膜片測(cè)量裸片和鍍膜片測(cè)量:
兩維掃描（Mapping）
快速，操作方便
積分式、非接觸

測(cè)量參數(shù)：
單點(diǎn)反射率
兩維掃描反射率
電池片不均勻度
膜厚
色度（顏色）

產(chǎn)品組件:
兩維全自動(dòng)反射率儀R9000-2DMA
標(biāo)準(zhǔn)白參考瓦
標(biāo)準(zhǔn)鏡面反射體
控制軟件Morpho-R9MA
膜厚及色度分析軟件
燈泡

用于檢測(cè)所有相關(guān)硅片類型:
單晶硅片（拋光、粗糙、絨化）
多晶硅片（拋光、粗糙、絨化）
硅片尺寸：125x125 / 156x156 mm

現(xiàn)場(chǎng)使用情況